Ornstein fue beneficiado con el Decreto N° 429 del 23 de diciembre de 2016, que concede la rebaja de pena impuesta a personas condenadas por delitos comunes, firmado por el Presidente panameño.
(24/12/2016 – web) Panamá.- El presidente de la República de Panamá, Juan Carlos Varela autorizó este viernes la rebaja de pena del ciudadano holandés Okke Ornstein, quien enfrentaba procesos judiciales tras haber sido condenado bajo cargos de calumnia e injuria.
«El Estado panameño reconoce que el ejercicio de la libertad de expresión es fundamental para la democracia, pues fomenta la transparencia de las actividades estatales y promueve la responsabilidad de los funcionarios sobre su gestión pública», indicó el Mandatario.
El periodista holandés fue detenido el pasado 15 de noviembre a su llegada al Aeropuerto Internacional de Tocumen, para cumplir con una sentencia de 20 meses de prisión (8 por injuria y 12 por calumnia). Estos procesos judiciales fueron iniciados en 2011 y 2012 por el ciudadano canadiense Monte Morris Friesner y los señores Patricius Johannes Visser, Kerrn Visser y Maurice Sjerps.
En atención a las múltiples muestras de preocupación por la detención del periodista holandés Okke Ornstein emitidas por la Comisión Interamericana de Derechos Humanos, las Federaciones Internacional y Europea de Periodistas (FIP y FEP), la Sociedad Interamericana de Prensa (SIP), entre otros, el Presidente de la República ha decidido hacer uso de la facultad discrecional que le concede el numeral 12 del artículo 184 de la Constitución Política de rebajarle la pena.
Igualmente, Ornstein recibió la rebaja de pena accesoria que lo inhabilitaba para ejercer periodismo en Panamá.
El Gobierno de Panamá mantiene un firme compromiso con el respeto a la libertad de expresión y a los Derechos Humanos. Panamá continúa trabajando arduamente a lo interno del país y con la Comunidad Internacional para seguir elevando los estándares en esta materia.
Fuente/Foto: Secretaría de Comunicaciones
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